Proses persiapan inti
Target titanium adalah bahan pelapis inti yang dirancang untuk pengendapan uap fisik (PVD) dan sputtering magnetron, yang sangat cocok untuk persiapan pelapisan kelas atas, chip semikonduktor, dan produksi komponen elektronik presisi, dan merupakan bahan dasar utama yang sangat diperlukan dalam bidang manufaktur maju, semikonduktor, medis, dan bidang lainnya.
Pemilihan bahan baku
Target titanium terbuat dari blok titanium dengan kemurnian tinggi 99,99% sebagai bahan bakunya, dan permukaannya dikontrol secara ketat tanpa oksidasi, pengotor, retakan, dan cacat lainnya, memastikan keseragaman bahan dan standar kemurnian, serta memastikan kualitas pelapisan dan sputtering dari sumbernya.
Pencairan vakum
Target titanium mengadopsi tungku peleburan busur vakum, dipanaskan hingga di atas 1668 derajat (titik leleh titanium) untuk melelehkan bahan mentah sepenuhnya, dan seluruh proses lingkungan vakum tinggi mengisolasi kotoran gas; Dalam skenario khusus, dapat dioperasikan dalam atmosfer pelindung seperti gas argon untuk mencegah oksidasi material.
Penempaan presisi
Setelah target titanium dicetak dan dibentuk oleh cairan titanium cair, target tersebut ditempa dan ditekan secara seragam dengan mesin press hidrolik, dengan seluruh proses kontrol suhu dan pelestarian panas, untuk memastikan keuletan dan kepadatan struktural material.
Cetakan kasar
Target Titanium dikerjakan melalui mesin bubut CNC dan mesin penggilingan untuk membentuk secara akurat sesuai ukuran dan bentuk target guna memenuhi persyaratan adaptasi peralatan.
Intensifikasi perlakuan panas
Target titanium dikenakan perlakuan panas seperti larutan larutan dan anil pada suhu 800–1000 derajat untuk mengoptimalkan struktur mikro dan secara signifikan meningkatkan kekuatan dan ketangguhan target.
Penyelesaian permukaan
Target titanium diproses dengan penggerindaan{0}}bertahap dan pemolesan halus, serta penyelesaian permukaan dan kerataan memenuhi standar untuk memastikan film sputtering seragam dan stabil.
Fitur inti produk
Kinerja luar biasa: kepadatan tinggi, tahan panas tinggi, struktur stabil, dapat beradaptasi dengan kondisi pelapisan dan sputtering yang kompleks dan parah.
Stabilitas kimia: ketahanan korosi yang kuat, kelembaman kimia yang baik, masa pakai yang lama, konsistensi lapisan yang baik.
Nilai luar biasa: Meskipun biaya bahan mentah dan pemrosesannya tinggi, kinerja komprehensifnya adalah yang terdepan, dan merupakan bahan habis pakai utama yang tak tergantikan di-bidang teknologi tinggi.
Bidang aplikasi utama
Bidang semikonduktor
Salah satu bahan baku inti pembuatan chip, digunakan untuk pelapisan dan proses proses komponen utama seperti transistor dan sirkuit terpadu.
Bidang industri
Bahan ini digunakan dalam pelapis{0}}fungsional kelas atas, pelapis anti-korosi dan-tahan aus, pelapis mobil, manufaktur presisi, peralatan-kelas atas, dan industri lainnya.
Bidang medis
Ini memiliki biokompatibilitas yang sangat baik dan dapat digunakan untuk pelapisan permukaan dan pemrosesan cetakan perangkat medis seperti sambungan buatan dan implan gigi.
Kustomisasi dan layanan
Ini mendukung pasokan yang disesuaikan sesuai dengan kebutuhan pelanggan, dan dapat dengan cepat memberikan penawaran harga yang akurat dan pengiriman yang efisien sesuai dengan persyaratan terperinci seperti kemurnian, ukuran, toleransi, dan parameter teknis untuk memenuhi kebutuhan penelitian dan pengembangan,-produksi uji coba dalam jumlah kecil, dan-produksi massal skala besar.
Tag populer: target titanium, produsen, pemasok, pabrik target titanium Cina, Sekrup Silang Kepala Bulat TitaniumTitanium Tee
